详细描述
一、概述:
本产品系统采用了多环控制技术,结构上采取了防盐雾酸化措施。研制成新一代低压大电流高频开关电源,以体积小,重量轻,高效率,高可靠的优越性能成为可控电源的更新换代产品。
二、特点:
●可靠性强,保证设备安全运行,减少故障发生,保护齐全,隔离及防腐措施合理,具备计算机接口功能(可选)
●高稳定性:系统反应速度快,对于网电及负载变化具有极强的适应性,输出精度可达1%。
●节电效果好:较可控硅整流器可节电15%-30%,对企业降低成本定会发挥重要作用,效率达90%以上。
●体积小、重量轻:体积与重量为可控硅整流器1/5-1/10,便于规划、扩建、移动和安装。
●技术含量高,核心部件采用国际专利技术产品,控制电路采用专有技术,稳压性能强, 所有设备出厂前已经过严格检测和长时间老化试验,可连续工作达1万个小时,提高了工作效率。;
三、技术指标:
输入电压:380V±10%,额定频率为50Hz;
输出电压:0~24VDC;(高压可定制)
输出电流:0~15000ADC;(全范围可调)
电压电流精度:1%
四、应用特点:
1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
2、 改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
3、 改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。
4、 降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。
5、 有利于获得成份稳定的合金镀层。
6、 改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。
7、 改进镀层的机械物理性能,如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。
传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统整流器存在的缺陷。
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(电流10A~20000A,电压3V~600V),生产周期一周左右。
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