公司名称：成都普斯特电气有限责任公司
所属类别：电源产品分类>>逆变电源(DC/AC)
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更新时间：2007-11-9 10:19:29

MS 系列磁控溅射电源
主要用途
MS系列逆变磁控溅射电源主要用于平衡和非平衡磁控溅射靶的直流磁控溅射、单极性脉冲磁控溅射、中频孪生靶磁控溅射和中频非对称靶磁控溅射，它们是传统磁控溅射电源的更新换代产品。
主要特点
1．采用先进的开关电源技术，体积小、效率高、运行稳定、噪声低、对电　
　　　　网干扰小，在节能和镀膜工艺的稳定性上比传统电源有明显的优势。
　　 2．具备自动稳流功能，可在电网电压和负载大幅度波动情况下保证电源高
　　　　效、稳定地工作，充分保证镀膜工艺的重复性，精确控制膜厚和减少靶
　　　　材用量。
　　 3．针对新靶清洗时存在的频繁打火现象,　设计了抑制打火自动保护功能,既
　　　　保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度。
　　 4．具有电压陡降特性,可充分满足磁控溅射的特殊要求。
　　 5．主要参数均可大范围连续调节。
　　　　
I、 MSD直流磁控溅射电源
主要特点
　 直流磁控溅射用于镀制金属膜及化合物膜，输出电压为直流，具有稳流功能，
　　　 稳流精度1% 。
主要参数
　　空载电压≥1000V，工作电压：200～700V，稳流精度1%。
主要规格
按输出功率分为2kW、5kW、10kW、20kW、30kW、50kW、70kW、100kW等。

II、MSP单极脉冲磁控溅射电源
主要特点
　 单极脉冲磁控溅射电源适用于金属、合金及石墨等靶材镀制纯金属膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。能明显性改善靶面电荷积累现象，减少溅射靶表面的打火次数，提高膜层质量。输出电压为单极性脉冲，具有平均电流稳流功能。
主要参数
　　 空载电压≥1200V，工作电压：200～700V
　　 平均电流稳流精度1%
　　 脉冲频率：40kHz～80kHz（连续可调或定频）
　　 脉冲占空比：10%～80%（连续可调）
主要规格
　　 按输出功率分为：2kW、5kW、10kW、20kW、30kW、50kW、70kW、100kW等。

III、MSB双极脉冲磁控溅射电源（中频电源）
主要特点
　 双极脉冲磁控溅射电源适用于中频孪生靶磁控溅射金属和非金属材料，特别适合于反应磁控溅射镀制ITO膜、介质膜、绝缘保护膜等。本电源能增加离化率，减小电荷积累引起的异常放电，预防靶表面中毒现象。
主要参数
　　 空载电压≥1200V，工作电压100～700V
　　 平均电流稳流精度1%
　　 脉冲频率：20kHz～40kHz（连续可调或定频）
　　 脉冲占空比：10%～80%（连续可调）
主要规格
　　 按输出功率分为：2kW、5kW、10kW、20kW、30kW、50kW、70kW、100kW等。

IV、MSB1非对称双极脉冲磁控溅射电源
主要特点
　　可单靶或双靶工作。双靶工作时两个靶的材料和尺寸都可以不同，每个靶的溅射电流可分别设定；单靶工作时也可减少电荷积累引起的异常放电。适合于镀制碳化物、氧化物、氮化物等膜层，双靶运用可方便控制成份比。
主要参数
　　 空载电压≥800V，工作电压200～600V
　　 正负极性平均电流独立稳流，精度1%
　　 脉冲频率：3kHz～30kHz（连续可调或定额）
　　 脉冲占空比：10%～80%（连续可调）
主要规格
　　按输出功率分为：5kW、10kW、20kW、30kW、50kW、70kW、100kW等。

V、MSM三用磁控溅射电源
主要特点
　　一机多用，可用于直流、单极性、对称和非对称双极性等多种磁控溅射设备。特别适合于科研院所、大专院校和企业的设备研制及工艺开发 。
主要参数
　　 空载电压≥800V，工作电压200～600V
　　 工作方式（开关选定）：
　　　A.直流磁控溅射　　B.单极性磁控溅射　　C.双极性磁控溅射
　　 正负极性平均电流独立稳流，精度1%
　　 脉冲频率3kHz～30kHz（连续可调或定频）
　　 正负脉冲占空比10%～80%（连续可调）
主要规格
　　 按输出功率分为：2kW、5kW、10kW、20kW、30kW等