镀膜方式：直流磁控溅射、三靶或多靶磁控溅射镀膜、射频/直流磁控溅射+蒸发，制膜种类： 金属膜、粉体颗粒膜、反应膜、磁性膜、介质膜、氧化膜、有机膜。电源型式：3000W双极脉冲电源、1000W电磁靶电源、2000W双极脉冲源、1000W射频电源、1500W恒流源。只使用直流电源，电子方向始终统一，会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了，然后磁控溅射将不再继续，所以采用脉冲电源。

  电源规格：最大电压：0-300V,0-500V,0-600V,0-700V…0-10000V

最大电流：0-10A,0-20A,0-30A,0-50A,…0-20000A
   基本参数如下：

输入电压 220V50Hz
   输出电流 0-固定电流可调
   输出电压 0-固定电压可调
   稳压精度(%) 〈1%
   稳流精度(%) 〈1%
   过载能力(%) 110%
   整机效率 ≥90%
   功率因数 >0.95

绝缘阻抗 ≥5MΩ
   冷却方式 风冷或水冷皆可
   工作限度 可满负荷操作
   对电网干扰 小,易消除

保护功能 过压、欠压、过热、过流

工作环境 0~40℃  湿度〈95%