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日本半导体业上演合纵连横
新闻ID号:  19812 无标题图片
资讯类型:  交流培训
所属类别:  功率器件
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发布时间:  2009/6/23 8:52:03
更新时间:  2009/6/23 8:52:03
审核情况:  已审核开通[2009/6/23 8:52:03]
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新闻来源:  EDN
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发 布 者:  电源在线
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    日本两大电子巨头东芝和NEC电子18日宣布,将扩大与IBM在最尖端的半导体开发领域的合作,之前在最先进的系统集成电路开发上,日本松下和瑞萨已经开展合作。日本半导体业的“合纵连横”将愈演愈烈。

    东芝公司发布新闻公报称,三方将共同开发28纳米工艺CMOS处理技术,该技术可用在高速传输大容量数据的下一代通信机器上。这项开发将在IBM位于美国纽约州的半导体工厂进行。

    东芝和NEC电子分别于2007年12月和2008年9月加入了以IBM为核心的半导体开发阵营。两家日本电子巨头也互相开展合作,把从IBM阵营获得的技术成果应用在量产的产品中。

    业界普遍认为,半导体开发需要巨额投资,东芝和NEC电子强化与IBM的合作能够减轻资金负担,并提高开发效率。■