韩国三星电子日前发布了像素间隔仅2.25μm，而开口率却高达55％以上的CMOS摄影元件（CMOS晶体管）。该元件摄影部分对角长度为1/2英寸（约8mm），集成了约720万个像素。
在像素间隔不足2.5μm的摄影元件中，开口率一般为25％左右。开口率越高，相应地就越容易提高摄影元件输出信号的级别。据悉，三星电子在此次开发的产品中使用了铜布线。在CMOS传感器中使用铜布线的试制品，曾由美国IBM和柯达组成的研究小组在2005年6月9日～11日召开的“2005 IEEE Workshop on Charge-Coupled Devices and Advanced Image Sensors（CCD&AIS）”国际会议上发表过。
在同一个会议上，三星电子发表了开口率高达约50％、像素间隔为2.0μm的CMOS传感器试制结果。不过，并没说是否使用了铜布线，只是表示为了提高开口率，将布线宽度缩小到了90nm或130nm。目前，上市日期未予公布。
在像素间隔不足2.5μm的摄影元件中，开口率一般为25％左右。开口率越高，相应地就越容易提高摄影元件输出信号的级别。据悉，三星电子在此次开发的产品中使用了铜布线。在CMOS传感器中使用铜布线的试制品，曾由美国IBM和柯达组成的研究小组在2005年6月9日～11日召开的“2005 IEEE Workshop on Charge-Coupled Devices and Advanced Image Sensors（CCD&AIS）”国际会议上发表过。
在同一个会议上，三星电子发表了开口率高达约50％、像素间隔为2.0μm的CMOS传感器试制结果。不过，并没说是否使用了铜布线，只是表示为了提高开口率，将布线宽度缩小到了90nm或130nm。目前，上市日期未予公布。
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本文链接：三星开发出2.25μm像素间隔CMOS
http:www.cps800.com/news/2005-9/200591692129.html
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