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超越锑化铟 采用碳可获得电子速度最快的芯片

2008/3/29 10:29:35   电源在线网
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    马里兰大学的研究人员称,碳晶体管会成为最快的晶体管,可以超越包括锑化铟在内的所有芯片材料。

    研究人员认为,如果为芯片选择了合适的衬底材料,纯石墨烯晶体管就可以在室温条件下获得最高的速度。

    在硅材料中,电子的迁移率大概是1,400 cm2/Vs,此外,目前已知的最高电子迁移率是在锑化铟材料中实现的,可达77,000 cm2/Vs。于此不同,马里兰大学的研究人员测量出石墨烯的晶格振动最为微弱,而像杂质和衬底选择这样的二级效应对迁移率的影响会比声子更大。

    下一步,研究人员将尝试广泛应用的碳化硅衬底,这种衬底可以预先制作到晶圆上。该团队还计划将石墨烯沉积到金刚石衬底的顶层。他们还将尝试空气间隙,当然,Fuhrer也指出这种结构的制作比目前商用器件要困难很多。

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编辑:coco
  来源:国际电子商情
本文链接:超越锑化铟 采用碳可获得电子速度最快的
http:www.cps800.com/news/2008-3/2008329102935.html
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